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半导体超纯水设备的工艺流程是怎么样的呢
点击次数:131 发布时间:2019-05-27
   半导体超纯水设备采用的是主要是反渗透膜技术。它的工作原理是对水施加一定的压力,使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜,而溶解在水中的绝大部分无机盐(包括重金属)、有机物以及细菌、病毒等无法透过反渗透膜,从而使渗透过的纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开。
 
  企业在生产过程中,很多行业对水质的要求比较高,普通的水源无法满足企业的生产需求。半导体超纯水设备具有出水水质高、可不间断产水、自动化控制、无污水排放等特性,深受生产企业的喜好。然而经过长时间的使用,超纯水设备内部出现水垢,导致产水水质变差,下面教您如何解决半导体超纯水设备产生水垢的问题:
 
  1、在半导体超纯水设备内设置预冷器,使蒸发器的管表面蒸发温度在40℃以下。同时,采用大水量,密集型布水器,确保冷凝器管表面时刻被水膜包覆,无干涸点。
 
  2、在超纯水设备制作时进行预膜防垢处理。可以有效的阻止污垢晶体在铜管表面上附着,降低蒸发器结垢可能,延长蒸发器、冷风机结构周期。
 
  3、采用少量连续排水装置,将超纯水设备的冷却循环水的钙离子的浓缩倍数控制在一定范围内,有效的防止垢质的析出。
 
  半导体超纯水设备的工艺流程?
 
  1、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点。
 
  2、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点。
 
  3、原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点。
 
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